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CWL-M离心萃取机代替反应釜除去二氯甲烷中的DMF工艺流程
时间:2025-06-27 17:27 点击次数:118

  精细化工生产中,有时会遇到需要将二氯甲烷原液(负载产品)中的DMF除去,这个生产工段叫做反萃段,需要用到反萃设备,反萃设备在功能上与萃取设备是一致的。

  而目前很多化工厂家仍然采用传统釜式萃取分离装置,反应釜采用间歇方式生产,费时费力,更多的化工厂对萃取设备提出了更高的要求,连续化、大型化、现代化的萃取分离装备越来越受到广大客户的认可和追捧。

  天一萃取针对化工厂间歇式生产的困难,向市场推出了连续化的离心萃取工艺,该工艺具有萃取效果明显、分离速度快、萃取效率高等优点,并且,该工艺配有锆丝静电导出装置,能及时消除静电产生的安全隐患。针对二氯甲烷除去DMF的处理需求,天一给出了完善的处理流程:

  原液中的DMF水溶性杂质,通过加水进行萃取洗涤,原液中DMF、水溶性杂质转移至水相中,最终达到净化原液的目的。

  水洗水经过两级逆流工段后,不仅将水溶性杂质去除,同时也将部分产品带走。这时,就需要对回收工段使用二氯甲烷将洗涤水中“夹带产品的水相”进行萃取回收,实现产品回收。

  值得一提的,在洗涤阶段,通过对离心萃取机泵流量计的调整,可以实现对原液和洗涤水的准确计量,从而控制进料的相比和流量,以达到最佳的水洗效果。

  3、离心萃取设备功耗较低(CWL350-M型功率为2.2Kw),可降低生产成本;

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